（1）1IGHT PATH—光路和氬氣沖洗輸入通道（光路）。激發樣品產生的光譜經過此通道進入光學室。樣品臺的固定絕緣塑膠木和入射光路系統連接。

（2）水冷卻部件。樣品架由單獨水泵供應冷卻水循環。樣品在激發過程中產生高溫，樣品架要發熱，用水冷卻。冷卻水用蒸餾水，每半年更換一次。水中產生臟物容易將樣品架水循環通道阻塞，使樣品架不能冷卻而影響分析結果。

（3）樣品臺主要用來固定被分析的樣品。

（4）燃燒中廢氣排除的通道。

（5）銀電極和KH-3/5光源電纜連接端，銀電極和樣品之間5mm間距，間距不對會影響進入光路的激發光的發光部位，而影響光強值的波動造成分析結果差異。

（6）氮化硼圈和“0”形密封圈。

（7）組成樣品在樣品臺上固定的壓緊裝置。

應注意：這種樣品臺要求樣品背面應當干凈，不帶氧化皮，防止壓頭青銅螺釘與樣品表面跳火。

樣品架作為激發樣品用，樣品架裝在分光儀上，樣品可以是平面塊狀或棒狀。樣品架是光譜儀的信號源，應當認真維護和保養好。

氬氣控制氣氛

采用真空光電直讀光譜儀，用低壓火花激發光源，燃燒腔內必須充滿氬氣（純度在99.99%以上），使樣品在控制氣氛下激發。這種效果是相當好的。因在氬氣控制氣氛下，伴隨而來的第三元素影響減少。在氬氣控制氣氛下，原子的電離比較容易，所以離子線的靈敏度提高比原子線更有利。尤其是分析鋼樣中碳、磷、硫元素的短紫外線不被空氣吸收。在激發前氬氣沖洗，在激發過程中吸收光譜線強度的空氣和水蒸氣都已沖洗干凈。

氬氣控制系統

貝爾德光電直讀光譜儀DV-5氬氣沖洗控制系統。由圖可知，該控制系統分為左樣品架和右樣品架（RIGHT STAND)。兩個樣品架的氬氣沖洗控制系統相同。，TV為流量開關，控制右電極架氬氣輸入。NV為1#、2#、3#微調閥門，左架由微閥門NV1#控制氬氣輸入光路。在樣品分析之前，要有一定的氬氣流量流過光學室之前光路內。同時，NV2#和NV3#微調閥門控制電極架燃燒腔內的靜態氬氣。如果不保證微的氬氣充滿光路和燃燒腔，則將嚴重影響碳、磷、硫等短紫外線元素的分析精度。上面經說明過，空氣會吸收譜線的強度。SV為左架和右架沖洗電磁閥。當進入光譜樣品分析操作，首先沖洗(約3s）著預燃和曝光。整個操作過程沖洗電磁閥打開，讓氬氣進入左燃燒腔或右燃燒腔。PV為左、右面板上流量調節閥（動態時）。FM為左、右氬氣流量表，指示動態流和靜態氬。